纳米抛光液是一种高性能的化学机械抛光（CMP）材料，主要用于金相试样、半导体晶片、光学材料等的精密抛光。其核心成分包括高纯度的纳米级磨料（如二氧化硅、氧化铝等），辅以分散剂、悬浮剂、络合剂等添加剂，确保抛光液具有良好的分散性和稳定性。
纳米抛光液广泛应用于以下领域：
半导体行业：用于单晶硅片、多晶硅片、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等的抛光。
光学材料：适用于红外晶体、硒化锌晶体、激光晶体、光学晶体等的抛光。
金属材料：用于不锈钢、铝合金、模具钢等的抛光。
陶瓷材料：适用于氧化锆陶瓷、蓝宝石衬底等的抛光。
金相制样：用于金属、陶瓷、玻璃等材料的金相试样抛光。
